Описание:

Электронно-литографическая приставка высокого класса для растрового электронно-лучевого микроскопа, оборудованного термоавтоэмиссионным катодом, либо для ионно-лучевого микроскопа, или рабочей станции FIB-SEM. Построенная на технологии DSP архитектура приставки оптимизирована для работы на высоких скоростях генератора паттернов и экспонирования; обеспечен низкий уровень шумов, высокий уровень сигнала, стабильность и т.д., что уже невозможно достигнуть при помощи низкоуровневого решения на основе ПК. Доступны продвинутые режимы нанолитографии (например, расчет и  коррекция эффекта близости несколькими моделями по методу конечных разностей, литография в 3D, автоматизация процессов типа step&repeat, выравнивание по полю экспонирования и при переходе от поля к полю).

ELPHY Plus – выделенный 16-битный аппаратный модуль, позволяющий работать на скоростях цифро-аналоговых преобразователей вплоть до 12 МГц. Модуль термостабилизирован и основан на технологии DSP, обеспечен низкий уровень аппаратных шумов, радиочастотное экранирование электроники, что позволяет добиваться стабильной работы на высоких скоростях экспонирования.

Технические характеристики: