Описание:

Самая современная электронно-литографическая приставка, разработанная специально для широкого спектра задач рабочих станций FIB-SEM. Система построена на технологии DSP и включает в себя цифровой роутер, что позволяет работать, автоматически переключаясь между FIB и SEM, максимально эффективно совмещая эти техники рабочей станции.

В дополнение к управлению при помощи генератора ELPHY, через роутер можно использовать и другие управляющие сигналы: например, осуществлять контроль колонны SEM блоком EDS (энерго-дисперсионной спектроскопии) или WDS (волновой спектроскопии). Таким образом, Multibeam предоставляет не только полноценные литографические возможности для станций FIB-SEM, но и удобство контроля как литографических, так и аналитических приложений. Возможна автоматизация многоступенчатых процессов и пошагового контроля, циклическая обработка образца с точным контролем критических параметров, функционал 3D-литографии, контроль и осуществление резки, травления, осаждения, функционализации поверхностей и т.д.

Максимальная стабильность цифро-аналоговых преобразователей, максимальная скорость (20 МГц), расширенные возможности литографии (точное выравнивание в ручном и автоматическом режимах, коррекция эффекта близости, гибкость и оптимизация экспонирования элементов разной геометрии FLEXposure, дизайн и выравнивание по изображению DirectAlignDesign, GDSII-patterning on Image, менеджер рецептов автоматизации, 3D-литография). Управление с ПК и при помощи сенсорного экрана.

ELPHY Multibeam – выделенный 16-битный аппаратный модуль, позволяющий работать на скоростях цифро-аналоговых преобразователей вплоть до 20 МГц. Модуль термостабилизирован, основан на технологии DSP; обеспечен низкий уровень аппаратных шумов, радиочастотное экранирование электроники, дифференциальные выходы сигнала со сниженными шумами, что позволяет добиваться стабильной работы на максимально высоких скоростях экспонирования. Входящий в состав системы роутер управляющих сигналов позволяет строить работу в автоматизированном режиме (управление электронно-оптической колонной, колонной ФИП, предметным столом), что является незаменимой составляющей получения максимально эффективного результата (например, высокая точность и качество резки/травления ФИП могут быть достигнуты только при циклическом травлении с пошаговым контролем размеров). Также, роутер сигналов может обеспечивать подключение и других внешних устройств (например, EDX).

 

Технология

• Raith

 

Дополнительное оборудование

• Держатели образца
• Калибровочные образцы
• Электростатический бланкер для колонны РЭМ/ФИП
• Пикоамперметр

 

Программное обеспечение

Raith Nanosuite. Стандарт GDSII. Единый модуль дизайна CAD-объектов с привязкой к слоям, параметрам экспонирования, контроль позиционирования в системе координат образца, коррекция эффекта близости, литография в 3D, многопользовательский интерфейс.

 

Фотонно-кристаллический микрорезонатор специфической (овальной) формы: применение FLEXposure	Элементы микроэлектроники
Вытравленная ФИП структура в циклическом режиме (минимизация артефактов травления, достижение максимального соответствия запроектированным параметрам требуемой микро/наноструктуры).	Вытравленная ФИП структура в циклическом режиме (минимизация артефактов травления, достижение максимального соответствия запроектированным параметрам требуемой микро/наноструктуры)
Подводка контактов (in situ Patterning on Image)	Вытравленная ФИП высокоточная микро-наноструктура.

 

Технические характеристики

Скорость экспонирования	20 МГц
Роутер сигналов	Управление растром РЭМ, ФИП Управление координатным столом Подключение сторонних внешних устройств (EDX, AUX 1, AUX 2)
Цифроаналоговые преобразователи	16 бит 2 х 3 мультиплицирующих ЦАП для сверхвысокоточного выравнивания и калибровки размеров в поле экспонирования
Режимы и характеристики	Редактор GDSII с интегрированной иерархической структурой; обсчет и привязка параметров экспонирования; скриптинг (VB), создание макросов Импорт форматов AutoCAD DXF, ASCII, CIF Режим захвата изображения Измерение ширины линии Удаленный контроль РЭМ/ФИП, модуль ФИП “Offline” лицензии программного обеспечения Коррекция эффекта близости (опционально) Литография в 3D Работа с лазерным интерферометрическим столом без ограничений DirectAlignDesign – проектирование и экспонирование по РЭМ изображению FLEXposure – проектирование и экспонирование с возможностью задания траектории растра в зависимости от геометрии элемента Менеджер рецептов Оптимизированная для ФИП автоматическая система распознавания маркеров выравнивания Импорт доз экспонирования (с нелинейным распределением) по изображению в градациях серого 3D «наноскульптурирование» (при помощи РЭМ, ФИП) при помощи многоуровневого GDSII дизайна и параметров экспонирования FLEXposure
Временное разрешение по скорости экспонирования	1 нс
Минимальное время экспонирования на точку	50 нс с разрешением 1 ГГц